光刻机核心子系统及其功能介绍
本文将介绍光刻机核心子系统及其功能。 光刻机是集成电路制造中最为关键的核心设备，其本质是一台超精密的投影式照相系统，任务是将掩模版上的微纳电路图形以极高保真度“印刷”到涂有光刻胶的硅片上。 衡量光刻技术等级和经济性的主要指标有三项：分辨率，即光刻机能够转印的最小极限特征尺寸；套刻精度，即本层图形预定位置与实际转印位置之间的偏差；产出率，即每小时处理的衬底片数量。围绕这三项核心指标的实现，光刻机集成
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本文将介绍光刻机核心子系统及其功能。 光刻机是集成电路制造中最为关键的核心设备，其本质是一台超精密的投影式照相系统，任务是将掩模版上的微纳电路图形以极高保真度“印刷”到涂有光刻胶的硅片上。 衡量光刻技术等级和经济性的主要指标有三项：分辨率，即光刻机能够转印的最小极限特征尺寸；套刻精度，即本层图形预定位置与实际转印位置之间的偏差；产出率，即每小时处理的衬底片数量。围绕这三项核心指标的实现，光刻机集成