光刻机核心子系统及其功能介绍
本文将介绍光刻机核心子系统及其功能。 光刻机是集成电路制造中最为关键的核心设备,其本质是一台超精密的投影式照相系统,任务是将掩模版上的微纳电路图形以极高保真度“印刷”到涂有光刻胶的硅片上。 衡量光刻技术等级和经济性的主要指标有三项:分辨率,即光刻机能够转印的最小极限特征尺寸;套刻精度,即本层图形预定位置与实际转印位置之间的偏差;产出率,即每小时处理的衬底片数量。围绕这三项核心指标的实现,光刻机集成
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本文将介绍光刻机核心子系统及其功能。 光刻机是集成电路制造中最为关键的核心设备,其本质是一台超精密的投影式照相系统,任务是将掩模版上的微纳电路图形以极高保真度“印刷”到涂有光刻胶的硅片上。 衡量光刻技术等级和经济性的主要指标有三项:分辨率,即光刻机能够转印的最小极限特征尺寸;套刻精度,即本层图形预定位置与实际转印位置之间的偏差;产出率,即每小时处理的衬底片数量。围绕这三项核心指标的实现,光刻机集成
"印度制造"的标签即将贴上半导体芯片? 当地时间2026年5月16日,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)与印度科技巨头塔塔电子正式签署谅解备忘录(MoU),宣布建立战略合作伙伴关系,共同推进印度半导体制造生态系统发展,这一签约仪式在印度总理纳伦德拉·莫迪访问荷兰期间举行,由莫迪亲自见证。 根据合作内容,ASML将为塔塔电子即将在印度古吉拉特邦多勒拉(Dholera)建设的300毫米(12英寸)半导体
全球半导体设备赛道的寡头垄断壁垒,正在持续加厚。 4月20日,CINNO • IC Research发布2025年全球半导体设备行业核心营收榜单,数据直观印证行业核心趋势:市场总量稳步扩容,但话语权高度向头部集中,梯队格局牢不可破,唯有国产龙头实现结构性突破。 2025年全球半导体设备营收TOP10企业核心半导体业务总营收突破1300亿美元,同比增速维持16%的稳健水平,行业基本面持续向好,但增长
4月20日消息,CINNO • IC Research最新发布的全球半导体设备行业研究报告显示,2025年全球半导体设备商半导体营收业务Top10营收合计超1300亿美元,同比增长约16%。2025年Top10设备商名单与2024年完全相同,前五排名亦无变化。 注: (1)本排名汇率2025年1欧元=1.14美元,1日元=0.0067美元, (2)本次营收排名以上市公司半导体业务营收金额为依