一只MOS晶体管是如何制造出来的？
本文将介绍制造MOS晶体管的工艺流程。 理解MOS工艺，关键并不在于记住多少层氧化膜、多少块掩膜版，而在于弄清楚每一道工序如何影响晶体管的导通、关断和可靠性。 MOSFET如何控制电流 以n沟增强型MOSFET为例，器件通常形成在p型硅衬底上，两侧为重掺杂n型源区和漏区，中间由栅介质与栅极覆盖。 当栅源电压为零时，n⁺源区与漏区之间仍被p型衬底隔开，尚未建立连续的n型导电路径，因此器件基本处于关
半导体
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半导体技术
半导体电子束量测与检测技术介绍
本文将介绍半导体电子束量测与检测技术。 从光学到电子束 在半导体制造领域，对微观结构的观测能力直接决定了芯片制造的精度与良率。随着芯片特征尺寸不断缩小，传统光学观测手段逐渐逼近其物理极限。根据瑞利判据，光学系统的分辨率受限于照明光源的波长。 为了突破这一瓶颈，物理学界借助德布罗意“波粒二象性”理论，将电子波动的属性应用于材料观测。电子显微镜将电子源作为光源，通过电磁场加速和偏转带电电子，使其与待测
ADI芯品推荐丨集成功率监控器的高功率正热插拔控制器
在机器人目前的电源架构中，系统启动或更换电池时应对电流浪涌的能力至关重要，热插拔保护已成为解决此类痛点的关键器件。为了确保开关在这些操作期间的安全，系统需要专门的保护控制器，因为如果仅使用针对最差情况计算出的单点限流策略，往往会限制机器人正常工作时的满载功率。针对这些环环相扣的痛点，ADI提出了电源轨方案的关键器件——LTC4287热插拔保护芯片。 LTC4287是一款适用于热插拔应用的集成解决方
CMOS制造流程与关键工艺约束
CMOS 工艺是集成电路核心技术，核心是在同一块硅片上集成 NMOS 和 PMOS。本文梳理其核心流程，聚焦工艺复杂度、尺寸偏差、锁定效应、静电保护四大关键问题，解析行业应对策略。 CMOS工艺 CMOS工艺的重点，是在同一块硅片上同时做出NMOS和PMOS，常见做法是先在n型衬底中形成p阱，作为NMOS的体区；PMOS则直接做在n型区域中。 接着划分有源区和隔离区，并在有源区表面形成栅氧化层和
精度靠基准！思瑞浦电压基准芯片，累计出货10亿+颗，服务客户8000+
思瑞浦依托在高性能模拟芯片领域的持续创新，打造覆盖高精度电压基准产品的完整产品矩阵，为工业、通信、医疗、新能源、汽车电子及AI数据中心等应用提供稳定可靠的参考电压解决方案。截至目前，累计量产产品100+款，累计产品出货10亿+颗，覆盖终端客户8000+家。 产品具备高初始精度、低温漂、低噪声、优异长期稳定性及低功耗等优势，可广泛应用于ADC、DAC、MCU、精密测量、工业控制、电池管理、电源管理
双通道、±250mA驱动、750µA功耗——CBM8532这颗通用运放到底强在哪？
硬件工程师在给通用运放选型时，常常卡在一个两难里： 要驱动LCD面板、耳机、或者容性负载，普通运放几十mA的输出电流根本不够看，往往得在后面再挂一级缓冲； 加了缓冲级，BOM变长、板面积变大、静态功耗也跟着上去了； 同时你又希望它是单电源、低功耗、轨到轨，好直接和MCU、CMOS DAC或ASIC对接。 这几条需求，通常很难落进同一颗料里。 芯佰微（Corebai）推出CBM85
TaC涂层是什么？在半导体制造中有什么作用？
碳化钽（TaC）涂层凭借超高温稳定性与优异化学惰性，成为半导体高温工艺的关键防护材料。本文解析其 CVD 制备工艺，聚焦 SiC 长晶、GaN/SiC 外延等核心应用场景，梳理行业需求逻辑与国产替代趋势。 碳化钽（TaC）属于超高温陶瓷材料，熔点高达约3880℃，密度约13.9g/cm³，热导率约22W/(m·K)，热膨胀系数约6.3×10⁻⁶/K，对硅蒸汽、氢气、氨气等具有突出的化学惰性。碳化
玻璃基板、玻璃载板、玻璃中介层、玻璃核心基板有什么区别？
先进封装领域玻璃相关名词极易混淆：玻璃基板、玻璃载板、玻璃中介层、玻璃核心基板。四者属于包含、功能分层关系，并非等同替代关系。本文以城市交通类比清晰划分定义、功能定位与工艺侧重点，厘清行业常见混用误区。 最近讲先进封装，经常会看到几个词：玻璃基板、玻璃载板、玻璃中介层、玻璃核心基板。 它们听起来很像，好像都是“把玻璃用到封装里”。但如果不区分清楚，很容易把材料、结构和封装功能混在一起，最后得出一
RDL电镀厚度不均，先查光刻开口、电流密度还是搅拌条件？
先进封装 RDL 铜电镀厚度不均诱因复杂，包含光刻图形、种子层、电场、传质、药液多维度因素，不可盲目调整电流与电镀时长。文中给出标准化排查逻辑：先通过厚度 Map 判定不均类型，再按光刻开口→种子层→电流参数→搅拌槽液的顺序定位根因。 RDL电镀厚度不均时，不建议第一步就把电流调大，也不建议直接延长电镀时间。 厚度不均通常不是单一参数造成的。它可能来自图形开口、电流分布、种子层状态、槽液传质、添
从硅片到芯片：集成电路制造全流程解析
集成电路制造是数百道精密工艺协同的复杂工程，核心是在硅晶圆上通过重复循环构建晶体管与互连网络。本文从晶圆制备、光刻、沉积刻蚀、掺杂改性到互连封装，拆解芯片制造全流程，解析各环节核心原理与技术难点。 从一片硅到一枚芯片：集成电路制造究竟经历了什么？ 一枚集成电路看似只是面积有限的硅芯片，其内部却可能集成数以亿计乃至数百亿计的晶体管，以及规模庞大的金属互连网络。如此复杂的结构并不是一次加工完成的，而
钨塞W-plug是干什么用的？
钨塞是什么？ 钨塞（Tungsten Plug，业内常简称为 W-plug）是半导体集成电路制造中，用于实现晶体管器件层与上方金属互连层之间垂直电气连接的圆柱形微观金属导体。 在芯片的物理架构中，它主要位于中道工序（MOL, Middle-of-Line）的接触孔（Contact）层。通俗来说，晶体管的源极、漏极和栅极深埋在底层的硅基底上，而负责传输信号的铜布线（M1, M2...）悬浮在上方介质
钨塞（W-plug）是怎么做的？
本文介绍了钨塞（W-plug）的制造流程。 钨塞制造的标准流程是： 刻蚀接触孔/通孔 → 沉积阻挡/粘附层（Ti/TiN）→ 沉积钨成核层 → CVD 主体填钨 → CMP 平坦化 第一步：刻蚀接触孔 / 通孔（Contact / Via Etch） 在介质层（通常是二氧化硅或低介电材料）上，通过光刻定义位置，再用等离子体刻蚀打出又深又细的孔，露出下面要连接的部位——如果是接触孔，露出的是晶体
玻璃基封装载板，到底是不是“玻璃做的 PCB”？
本文介绍了玻璃基封装载板。 最近，半导体圈里“玻璃基封装载板”很火。很多人第一反应是：这不就是把 PCB 的材料从树脂换成玻璃吗？是不是可以理解成“玻璃做的 PCB”？ 这个说法有一点像，但也很容易误导。 更准确地说：玻璃基封装载板不是普通 PCB 的玻璃版，而是先进封装里的“高精度芯片地基”。它和 PCB 都负责连接电信号，但服务对象、加工精度、结构层级和产业门槛完全不同。 一、为什么大家会
芯片设计与制造中提到的Corner以及SS/TT/FF是什么？
本文介绍了芯片设计与制造中提到的Corner以及SS/TT/FF。 在芯片制造领域，Corner（工艺角）这一概念用于定量刻画因制造工艺导致的个体间性能差异。芯片制造时，如掺杂 (doping) 浓度、扩散 (diffusion) 深度、刻蚀 (etch) 程度，退火 (anneal) 这些工艺偏差，会使不同批次芯片或同一批次的不同晶圆，甚至同一晶圆上的不同die，都会在性能上产生variati
界面结合材料
本文介绍了界面结合材料。 概述 界面结合材料是一类可实现芯片与载板、芯片与芯片、芯片与热沉之间连接与黏结的功能性材料。为满足工业芯片封装的高标准、高可靠性要求，界面结合材料需具备多项核心技术特性：具备高机械强度，可抵御封装与服役过程中的各类机械应力；拥有优异的化学稳定性，能够耐受复杂环境侵蚀、避免材料失效；同时可根据应用需求具备导电或导热性能，优化电子器件整体工作性能。 除此之外，界面结合材料的
钴在半导体制造中的应用
文章来源：Tom聊芯片智造 原文作者：Tom 本文介绍了钴在半导体制造中的应用。 钴（Co）在半导体制造里的应用比很多人想象的要广，而且是随着制程推进逐步扩大的。它不只是"下一代互连金属"，在硅化物、接触、互连、衬垫层、甚至磁性存储等多个环节都有关键作用。 局部互连（Local Interconnect / MOL） ——先进节点应用 背景：在器件层和上层铜互连之间，有一层中段制程（MOL, Mi
应力的“记忆术”：SMT如何帮NMOS跑得更快
本文介绍了SMT如何帮NMOS跑得更快。 在芯片制造中，提升NMOS晶体管速度的一个有效方法，是在沟道中引入张应力。应力能改变硅的晶格结构，让电子迁移得更快。但问题在于，传统的应力引入方式——比如在器件上方沉积一层应力氮化硅薄膜——会带来布局依赖效应，不同密度的图形区域应力效果差异很大。 于是工程师发明了应力记忆技术，简称SMT。它的巧妙之处在于，应力源只是“临时工”，用完之后就撤走，但应力效
晶圆变“晶方”？AI封装火了，MEMS也能用吗？
本文介绍了方形晶圆的适用场景和优势短板。 近期半导体行业方形硅片批量交付的消息刷屏，不少人疑惑，几十年通用的圆形晶圆为何突然出现方形款，它会不会全面替代圆片，在MEMS 领域又有落地空间？ 晶圆和“晶方” 传统晶圆天生是圆形，硅棒经旋转提拉长成圆柱，切片自然呈圆形，全球整条光刻、清洗、机械手产线也都是围绕圆片设计，一直是芯片前道制造的主流。但随着AI大尺寸GPU、HBM、Chiplet普及，封装
作为汽车行业首款8发8收成像雷达MMIC，英飞凌RASIC™ CTRX8188F实现量产，加速中央式架构雷达的发展
全球功率系统和物联网领域的半导体领导者英飞凌科技股份公司已开始量产RASIC™ CTRX8188F。这款新一代8发8收（8Tx8Rx）雷达收发器使英飞凌在快速扩张的汽车4D与高清成像雷达市场中处于领先地位。该产品已完成量产准备，搭配AURIX™ TC45可支持边缘处理，是市场上首款支持中央式架构雷达的单片微波集成电路（MMIC）。中央式架构雷达系统采用了一种新兴设计方案，即将原始传感器数据直接传输
MLCC深度分析：AI服务器背后的“小电容”，为什么正在被重新定价？
在半导体产业链中，MLCC长期被称为“电子工业大米”。它不像GPU、CPU、HBM那样站在聚光灯下，也不像先进制程、光刻机、先进封装那样自带技术叙事，但几乎所有电子设备都离不开它。 手机主板上有它，汽车电控系统里有它，服务器电源模块里有它，GPU加速卡周边也有它。MLCC看起来只是一个极小的片式电容，但它承担的是去耦、滤波、稳压、储能、抑制噪声和改善电源完整性的基础功能。电子系统越复杂，芯片功耗
