光刻胶：从光学成像到化学放大的图形转化过程
本文将介绍芯片制造的光刻胶。 光刻胶 很多人将光刻简单理解为“用光把图案印到硅片上”，但从材料角度来看，曝光仅仅只是第一步。曝光后的光场进入光刻胶内部后，会在胶层中发生吸收、散射与能量衰减，并诱导光敏组分发生化学变化，形成所谓的“潜像”。这种潜像并不是肉眼可见的结构，而是一种曝光区与未曝光区之间的化学差异。只有经过后续曝光后烘烤（PEB）与显影处理后，这种化学潜像才会真正转变为具有实际形貌的微纳图
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本文将介绍芯片制造的光刻胶。 光刻胶 很多人将光刻简单理解为“用光把图案印到硅片上”，但从材料角度来看，曝光仅仅只是第一步。曝光后的光场进入光刻胶内部后，会在胶层中发生吸收、散射与能量衰减，并诱导光敏组分发生化学变化，形成所谓的“潜像”。这种潜像并不是肉眼可见的结构，而是一种曝光区与未曝光区之间的化学差异。只有经过后续曝光后烘烤（PEB）与显影处理后，这种化学潜像才会真正转变为具有实际形貌的微纳图