人工智能、半导体产业技术专题 · 共 2 篇内容

# 3D集成

「3D集成」是电子工程与人工智能、半导体产业领域的重要技术专题。纳米网为您深度聚合了 2 篇关于 3D集成 的硬件电路设计方案、芯片选型参数对比、产业动态研判与原厂参考资料(最近更新于 2026年10月)。核心收录议题涵盖《imec:垂直DRAM堆叠拓展HBM-on-GPU外热设计空间》《ASML专利曝光:欲将“Twinscan”技术移植至W2W混合键合设备》等实战工程解析。工程师可结合站内芯片选型库与 Datasheet 资料库进行一站式方案验证。

2
篇文章
7
人关注
133
次浏览
imec:垂直DRAM堆叠拓展HBM-on-GPU外热设计空间

imec:垂直DRAM堆叠拓展HBM-on-GPU外热设计空间

imec研究人员提出3D立体DRAM-on-GPU集成方案,将DRAM芯片垂直置于GPU上方并设冷却腔,替代传统2.5D HBM和直接堆叠HBM-on-GPU。

ASML专利曝光:欲将“Twinscan”技术移植至W2W混合键合设备

4月28日,在首尔举行的先进封装技术会议上,仁荷大学制造创新研究生院教授朱承焕(Joo Seung-hwan)透露,光刻机霸主ASML似乎正在将其核心Twinscan光刻平台的技术积累,应用于研发晶圆对晶圆(W2W)混合键合设备。这一动向若属实,标志着ASML正试图将其在前道光刻领域的统治力,强势延伸至后道先进封装市场。 根据朱承焕的分析,ASML的专利显示其正在利用Twinscan平台独特的双工