RTP如何快速冷却？
本文主要介绍了RTP如何快速冷却。 RTP的价值不只是快速升温，快速冷却同样关键。整个温度曲线必须尖锐，原因： 如果升温快但降温慢--》晶圆在高温停留时间仍然长--》掺杂原子继续扩散，热预算超标--》失去RTP控制热预算的意义 所以RTP要求升温和降温都快，形成一个尖峰状的温度曲线，冷却速率通常要求达到几十到上百°C/秒。 RTP三种散热方式？ 冷却的本质是把晶圆的热量快速带走。 | 传热方式
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# 快速热退火
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硅片热氧化工艺的分类和原理
本文介绍了硅片的热氧工艺与退火。 为什么要给硅片“氧化”？ 纯硅本身并不绝缘。要让电流在该走的时候走、不该走的时候停，必须在特定区域形成绝缘层。二氧化硅恰好是完美的天然选择：它与硅的晶格匹配良好、击穿强度高、化学性质稳定。氧化层在芯片中扮演三种角色： 栅介质：MOS晶体管中控制沟道开闭的核心绝缘层，厚度可薄至1-2纳米（仅几层原子）。 隔离层：像“围墙”一样隔开不同器件，防止电流串扰，典型