芯片垂直供电：颠覆性技术背后的隐忧与代价
本文将介绍芯片垂直供电的概念、优势以及存在的问题。 引言：为何垂直供电成为必选项 随着AI训练芯片和HPC处理器功耗突破千瓦级别，传统平面供电的瓶颈愈发突出：IR压降严重、电流密度饱和、供电效率低下。垂直供电（Vertical Power Delivery, VPD）应运而生——通过硅通孔（TSV）或背面供电网络（BSPDN）将电源直接从芯片背面馈入，大幅缩短供电路径、降低阻抗。 Intel的Po
产业分析、制造工艺技术专题 · 共 2 篇内容
# PowerVia
「PowerVia」是电子工程与产业分析、制造工艺领域的重要技术专题。纳米网为您深度聚合了 2 篇关于 PowerVia 的硬件电路设计方案、芯片选型参数对比、产业动态研判与原厂参考资料（最近更新于 2026年10月）。核心收录议题涵盖《芯片垂直供电：颠覆性技术背后的隐忧与代价》《连苹果都成潜在客户？Intel 18A-P 到底藏了多少硬货》等实战工程解析。工程师可结合站内芯片选型库与 Datasheet 资料库进行一站式方案验证。
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连苹果都成潜在客户？Intel 18A-P 到底藏了多少硬货
原标题：解析Intel 18A-P工艺细节：相比18A有何不同?很适合HPC应用? 关注半导体先进制造工艺的读者应该知道，Intel 18A工艺量产已经有段时间了——Panther Lake(酷睿Ultra 3代)及Clearwater Forest(至强6+)都用上了该工艺;前者相比主要基于TSMC N3的Arrow Lake的性能与能效提升还是有目共睹的。Intel 18A工艺的同家族演