Negative Tone Development (NTD)介绍
本文主要讲述NTD（负显影）。 在半导体光刻工艺中，传统正性胶配合碱性水溶液显影（即正显影，PTD）是主流技术。然而，随着工艺节点不断缩小，使用正显影来印刷小尺寸沟槽和通孔变得更具挑战性，因为这类图形通常需要暗场掩模，其光学图像对比度较差。 负显影（Negative Tone Development，NTD）是一种相对较新但至关重要的显影技术。它使用非极性有机溶剂作为显影液，选择性地溶解并去除未
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# 工艺窗口
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芯片生产中的Pirun是什么？有什么作用？
本文主要讲述芯片生产中的Pirun是什么，有什么用。 Pirun的基本概念与作用 在半导体晶圆厂（Fab）中，Pirun是Pilot Run的简称，指试生产或小批量生产。具体而言，它是在正式大规模量产之前，使用少量晶圆进行的一批小规模测试生产。这一环节的核心目的，是在可控的小范围内验证工艺的稳定性，确认新的工艺流程是否能满足要求，从而在正式大批量投产前及时发现并调整问题，降低经济损失。与常规的Mo