半导体、嵌入式与电路设计技术专题 · 共 3 篇内容

# STI

「STI」是电子工程与半导体、嵌入式与电路设计领域的重要技术专题。纳米网为您深度聚合了 3 篇关于 STI 的硬件电路设计方案、芯片选型参数对比、产业动态研判与原厂参考资料(最近更新于 2026年)。提供系统架构拆解、关键器件选型对比与工程调试经验。工程师可结合站内芯片选型库与 Datasheet 资料库进行一站式方案验证。

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多层高速PCB中,差分对跨分割参考平面时缝补电容(Stitching Capacitor)的容值选型与放置技巧

最近画一块PCIE 3.0 x4的扩展卡,由于板框结构限制,金手指引出的一组差分对不得不从Top层打孔换层到Bottom层,参考平面从GND1切换到了GND2。 我们在过孔旁边打了伴随地孔,如果需要跨不同电源平面缝补电容,0.1uF还是10pF?焊盘引入的额外电容寄生效应如何补偿?

差分信号走线跨越地平面分割(Split Plane)时,拼接电容(Stitching Cap)的最佳位置

【问题与背景描述】 近期在推进一款工程方案设计时遇到关于 差分信号走线跨越地平面分割(Split Plane)时,拼接电容(Stitching Cap)的最佳位置 的技术难点。 在样机测试与调试过程中,我们实测抓取了关键节点的波形,并对比了芯片官方手册(Datasheet)中给出的参考典型应用电路。 目前有几个疑问想向

差分信号走线跨越地平面分割(Split Plane)时,拼接电容(Stitching Cap)的最佳位置

【问题与背景描述】 近期在推进一款工程方案设计时遇到关于 差分信号走线跨越地平面分割(Split Plane)时,拼接电容(Stitching Cap)的最佳位置 的技术难点。 在样机测试与调试过程中,我们实测抓取了关键节点的波形,并对比了芯片官方手册(Datasheet)中给出的参考典型应用电路。 目前有几个疑问想向