SiC MOSFET 体二极管特性及死区时间选择
01 SiC MOSFET的体二极管及其关键特性 无论是平面栅还是沟槽栅,SiC MOSFET都采用垂直导电结构,其纵向(从漏极到源极)的层状结构是通用的,如下图所示: 图1. 沟槽型--英飞凌非对称沟栅CoolSiC™ MOSFET 图2. 平面栅型MOSFET N+衬底(Substrate):高掺杂,作为漏极。 N-外延层(Drift Layer):低掺杂,用于承受高阻断电压。 P-bod
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01 SiC MOSFET的体二极管及其关键特性 无论是平面栅还是沟槽栅,SiC MOSFET都采用垂直导电结构,其纵向(从漏极到源极)的层状结构是通用的,如下图所示: 图1. 沟槽型--英飞凌非对称沟栅CoolSiC™ MOSFET 图2. 平面栅型MOSFET N+衬底(Substrate):高掺杂,作为漏极。 N-外延层(Drift Layer):低掺杂,用于承受高阻断电压。 P-bod
新品 CoolMOS™ CFD7 SJ 高压超结 MOSFET 650V系列 650V CoolMOS™ CFD7是英飞凌最新高压超结MOSFET技术,集成快速体二极管,完善了CoolMOS™ 7系列产品,CoolMOS™ CFD7具备更低的栅极电荷(QG)、优化的关断特性,其反向恢复电荷(QRR)较竞品最多可降低69%,并拥有业界最低的反向恢复时间(trr),底部散热封装最大程度降低导通损耗,