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鲁汶大学等机构研究人员发表论文，展示完全干法沉积的卤代非晶沸石咪唑酯框架光刻胶在电子束与极紫外光刻中呈现辐照源依赖性色调转换，为下一代半导体制造先进图形化提供关键材料。
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