论文解读:该研究面向高数值孔径极紫外(EUV)光刻掩模,评估一种铂钨合金作为低折射率吸收层的可行性。研究人员关注其薄膜特性和成像表现,目标是为下一代更薄吸收层提供可选材料方案。
中国科学院、吉林大学、先进光学制造国家重点实验室和中国科学院大学的研究人员发表了一篇技术论文,题目为《评估替代铂钨合金作为低折射率 EUV 掩模吸收层:薄膜特性与成像性能》。
论文指出:“在本研究中,我们研究了一种替代铂钨合金作为下一代低折射率 EUV 掩模吸收层。”
可在此查阅技术论文:https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S258900422602290X。2026年8月。
Li, Zhonghua、Haolong Tang、Xiaoyi Wang、Hongwei Tian、Yanchao Wang 和 Hanwen Hu。《评估替代铂钨合金作为低折射率 EUV 掩模吸收层:薄膜特性与成像性能》。iScience,2026年8月。https://doi.org/10.1016/j.isci.2026.116912。署名-非商业性使用 4.0 国际许可。
来源: 海外媒体
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