哪些半导体设备用到了超（兆）声波？
本文介绍了半导体设备关于超（兆）声波的使用。 一、先区分超声波与兆声波 两者频率不同，应用场景也不同： | 类型 | 频率范围 | 主要应用方向 | | 超声波（Ultrasonic） | 20 kHz – 1 MHz | 键合、清洗（较强机械作用） | | 兆声波（Megasonic） | 0.8 – 2 MHz（甚至更高） | 精密清洗（温和，无损伤） | 频率越高，空化泡越小，对器件损伤
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# 晶圆清洗
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什么是SC-2清洗液？
SC-2是RCA清洗中的关键步骤，专用于去除晶圆表面的碱金属与重金属离子。它利用HCl与H₂O₂的强氧化与络合作用，消除SC-1清洗后残留的金属氢氧化物沉淀，并生成保护性氧化层。 SC-2是RCA清洗体系中的第二道清洗液，全称是Standard Clean 2，由美国RCA公司的Werner Kern在1970年发明，至今仍是半导体晶圆清洗的行业标准。 标准配方（体积比）： HCl:H2O2:H
什么是SC-1清洗液？
本文介绍了SC-1清洗液。 SC-1 (Standard Clean 1)，全称为标准清洗液一号，通常也叫做 APM (Ammonia Peroxide Mixture)。它是半导体制造中最著名、应用最广泛的清洗配方——RCA 清洗工艺的核心组成部分（由美国无线电公司 RCA 的 Werner Kern 于 1965 年发明）。 SC-1 的配方组成 SC-1 的经典化学配比是： 氨水 (NH3