芯片设计:DTCO如何让工艺和电路一起进化
本文主要介绍了DTCO如何让工艺和电路一起进化。 在先进制程中,单纯靠工艺微缩已经越来越难。工程师发现,很多问题其实是设计和制造“各干各的”造成的:工艺不懂电路的需求,电路也不了解工艺的局限。于是,一种新方法诞生了——DTCO(设计-工艺协同优化)。图片展示的就是DTCO的典型工具流程。它不是单向的“工艺做好→电路设计”,而是从原子级材料一直跑到芯片级布局布线,中间不断反馈、迭代。最底层(Su
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本文主要介绍了DTCO如何让工艺和电路一起进化。 在先进制程中,单纯靠工艺微缩已经越来越难。工程师发现,很多问题其实是设计和制造“各干各的”造成的:工艺不懂电路的需求,电路也不了解工艺的局限。于是,一种新方法诞生了——DTCO(设计-工艺协同优化)。图片展示的就是DTCO的典型工具流程。它不是单向的“工艺做好→电路设计”,而是从原子级材料一直跑到芯片级布局布线,中间不断反馈、迭代。最底层(Su
本文将详细介绍DTCO(设计-工艺协同优化)与STCO(系统-工艺协同优化)。 随着半导体工艺制程不断向3nm及以下演进,一个越来越清晰的趋势是:单纯依靠缩小晶体管尺寸来提升性能的传统路径,已不再像过去那样有效。在这一背景下,DTCO(设计-工艺协同优化)与STCO(系统-工艺协同优化)先后走上前台,成为延续芯片性能增长的关键方法论。 发展背景 过去几十年,半导体性能提升主要依赖“工艺驱动”:制程