堆叠芯片的“垂直通道”:TSV如何把DRAM叠成高楼
在高性能计算领域,AI芯片需要海量数据带宽,而HBM(高带宽内存)正是为此而生。HBM的核心技术之一,就是TSV(硅通孔)——一种垂直贯穿芯片的导电通道,让数据不再绕行,而是直接穿墙而过。 图片展示的是TSV在3D堆叠中的典型应用。多个DRAM芯片垂直堆叠在一起,芯片之间通过微凸点(micro bump)和TSV实现电气连接,最下方通过封装基板与逻辑芯片通信。TSV的尺寸通常在直径5微米、深度
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在高性能计算领域,AI芯片需要海量数据带宽,而HBM(高带宽内存)正是为此而生。HBM的核心技术之一,就是TSV(硅通孔)——一种垂直贯穿芯片的导电通道,让数据不再绕行,而是直接穿墙而过。 图片展示的是TSV在3D堆叠中的典型应用。多个DRAM芯片垂直堆叠在一起,芯片之间通过微凸点(micro bump)和TSV实现电气连接,最下方通过封装基板与逻辑芯片通信。TSV的尺寸通常在直径5微米、深度
2026 年 5 月 17 日,长鑫科技集团更新科创板招股说明书,拟募资 295 亿元冲刺上市,这是科创板史上第二大 IPO,仅次于中芯国际。作为国内唯一、全球第四的 DRAM 原厂,长鑫科技从连年亏损到业绩爆发,从技术追赶向高端突破,其 IPO 之路不仅是企业成长的里程碑,更是中国半导体存储产业打破海外垄断、实现自主可控的关键一步。 长鑫科技成立于 2016 年,深耕 DRAM 研发、设计与