本文介绍了钨塞（W-plug）的制造流程。
钨塞制造的标准流程是：
刻蚀接触孔/通孔 → 沉积阻挡/粘附层（Ti/TiN）→ 沉积钨成核层 → CVD 主体填钨 → CMP 平坦化
第一步：刻蚀接
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物穷其理 宏微交替
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本文主要讲述平行缝焊抗盐雾性能。 腐蚀现象 盐雾试验是一种模拟沿海大气环境对电子器件侵蚀效果的加速腐蚀测试手段。金属或防护涂层会在化学作用与电化学作用的共同影响下，出现持续性损伤破坏，常见腐蚀表现包含 -
本文主要讲述光刻工艺的坐标地图FEM。 在芯片光刻中，工程师经常提到“做个FEM”。这其实是光刻工艺调试中最基础也最关键的一步。今天我们就来拆解一下，FEM是什么，以及焦距和能量这两个参数如何决定光刻 -
本文主要讲述NIL技术。 目光投向EUV光刻之外的技术路线。纳米压印光刻（Nanoimprint Lithography，简称NIL）作为一种有力的补充方案，近期因佳能推出相关设备而备受关注，业界看好 -
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本文介绍了平行缝焊焊接质量影响因素。 焊接速度与焊接热量 现阶段电子设备逐步向轻量化、微型化、多功能化方向迭代，市场对微小型一体化封装管壳，尤其是表面安装型（SM）封装管壳的需求持续攀升。实际生产加工 -
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