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海外半导体杂志2026年11/12月刊目录公布,聚焦高NA EUV与AI供应

核心导读 据外媒报道,海外半导体杂志公布2026年11/12月刊目录,涵盖社论、新闻、光刻、市场报告、计量、污染控制、气体输送、CMP、激光加工、设施及行业观察等文章,涉及高NA EUV、2nm、AI供应瓶颈等主题。

每一期海外半导体杂志都包含仅在杂志中刊出的文章。点击链接可阅读本期文章。如果您参加 SEMICON Europa,可在 Tech Arena 领取纸质刊物。

本期内容包括:社论《欧洲依托自身优势》;新闻;光刻《高数值孔径EUV落地奥尔巴尼:2nm及更先进制程背后的生态系统》;市场报告《新的瓶颈堆栈:材料、基板、测试与产能如何掌控AI供应》;计量《利用WFPI全视场晶圆形状实现先进封装过程控制》;污染控制《半导体工艺设备中颗粒污染源的特征分析》;气体输送《半导体气体与流体输送系统中的连接完整性》;化学机械抛光《CMP为何需要针对研磨液团聚的在线解决方案》;激光加工《紫外激光为何适用于半导体加工》;设施《更快建成的晶圆厂始于更智能的基础设施规划》;行业观察《材料为何正在推动半导体创新的下一个时代》;行业观察《下一个节点何时赢得量产?》;行业观察《印度在全球半导体供应链中的定位》;行业观察《认识正在建设我们未来的当代工程专业学生》。

来源: 海外媒体

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