芯片行业10月27日技术论文汇总：GPU三维DRAM、CFET与EUV

当地时间4月20日16时53分许，日本三陆近海发生7.5级地震，震级后续已上调。 距离震中700公里的东京，有明显震感。 图1 本次地震位置示意图（震级随后上调到7.5） 因震中附近有多个核电站及核燃料处理工厂，日本气象厅紧急发布海啸警报和注意警报，要求相关地区民众立即避难。 海啸警报区域预计浪高3米，涉及岩手县、青森县沿岸等；海啸注意警报区域预计浪高1米，涉及宫城县、福岛县等。 此次地震对半导体

机器人曾只存在于虚构作品中，是服从指令的机器。机器人曾是人类智能的延伸，如今它们已在现实世界中学习、移动与适应。 机器人行业正迈入转型阶段，物理人工智能和计算机大语言模型的技术进步是机器人变革的主要推手，机器理解指令、解释数据并实时响应都离不开人工智能。 简而言之，我们正步入一个机器人能像人类一样，实时感知并适应现实环境的时代。像普通人一样，这些机器人有感知能力、智力和行动能力，能够理解周边环境，

近日，美国智库CSIS发布政策评论，表示美国出口管制正在从国家安全工具滑向贸易谈判筹码，催生中美“出口管制军备竞赛”，继续下去美方安全利益和经济利益都保不住。 2025年10月釜山谈判停火之后出口管制行动实质冻结，CSIS选择在这个冷却期窗口发文，可能是在下一轮升级前推动政策反思。 拜登政府2022年10月对华半导体管控是转折点：BIS对高性能计算芯片、先进半导体及相关制造设备实施单边管控，通过F

4月28日，复旦微电子集团技术专家委员会首次会议圆满举行，总经理张卫、技术专家委员会主任俞军及全体委员会成员共同参会，总经理助理王晓燕及智能体专项组成员列席会议，共同见证这一重要里程碑时刻，全面谋划新阶段技术创新与研发升级工作，为公司抢抓行业发展机遇、强化核心技术竞争力奠定坚实基础。 会上，总经理张卫发表开篇讲话，他强调，技术专家委员会的组建，是公司顺应行业发展趋势、应对市场激烈竞争、布局长远发

人工智能正以前所未有的速度重塑产业格局，也深刻改变着我们的工作方式、思维方式与协作方式。5月15日，芯朋微电子以“AI 进化向前迈”为主题的交流活动，在宜兴大拈花湾息壤酒店圆满举行。本次活动特邀知名媒体人、未尽研究创始人周健工先生，围绕人工智能、组织变革与未来趋势展开了深入的分享与交流。 特邀嘉宾：多维度深度剖析 AI 浪潮 作为本次活动的重磅嘉宾，周健工先生凭借深厚的媒体管理经验与长期的科技产

本文介绍了怎么解决光刻胶 RLS 三角矛盾问题。 一、解决光刻胶 RLS 三角矛盾问题有什么更优的方案 1. 金属氧化物光刻胶（尤其锡基），这是当前最重要的突破方向 传统的化学放大胶在 EUV 下 RLS 矛盾很尖锐，而金属氧化物光刻胶（Metal Oxide Resist，MOR，代表是含锡的胶）能在三个维度上同时改善，这是它被寄予厚望的原因。 2. 提高光子吸收效率 不管什么胶，提高对 EUV

技术日新月异，我们每天都走在创新的路上，获取前沿的领域知识，并转化为自己的成果，创造出更适合用户的产品。在这一路上，贸泽电子始终会伴你左右，并随时提供新的采购情报，希望借此能为你带来更多创新和灵感。以下是本周新品情报，请及时查收： 贸泽电子2025年新增63家供应商，产品代理阵容持续扩大，为广大电子设计工程师与采购人员提供了更加多元化的选择。贸泽为客户提供各类先进产品，让设计人员轻松获得各项新技术

4月29日晚间，闻泰科技发布公告，因容诚会计师事务所（特殊普通合伙）对公司2025年度财务会计

闻泰科技股份有限公司声明 Statement by Wingtech Technology Co., Ltd. 近日，安世半导体（Nexperia B.V.，“安世荷兰”）发布公开声明，声称自安世半导体事件发生以来，其多次要求与闻泰科技股份有限公司（“闻泰”或“我司”）管理层沟通，寻求建设性解决方案，但未获积极回应；并声称其已全面配合闻泰科技开展审计工作。安世半导体的该等声明歪曲事实，企图混淆视听

本文介绍了光刻工艺中的Exposure Dose (ED)是什么。 在半导体光刻工艺中，曝光剂量（Exposure Dose, ED）是决定光刻胶图形转移质量的核心参数之一。它直接关系到最终电路图案的精度与完整性，是整个光刻工艺中必须被精确控制的能量基础。 曝光剂量的物理定义 曝光剂量在本质上表征了光刻胶表面所接收到的总光能量。从物理定义来看，它是照射到物体表面单位面积上的光能量，在光刻工艺中特指

4月14日，根据海宁市人民法院公开的 (2026) 浙 0481 破申 28 号破产审查案件，浙江精瓷半导体有限责任公司因经营危机进入破产司法程序。 浙江精瓷半导体有限责任公司是一家专注于覆铜陶瓷基板研发、生产和销售的高新技术企业，成立于2020年12月8日，注册资本7243.58万元，专业生产DBC、DPC、AMB工艺的覆铜陶瓷基板，产品广泛应用于IGBT、固态继电器、新能源汽车、光伏风电、航空

慕尼黑上海电子**展（electronica Shanghai）将于7月1-3日在上海新国际博览中心W1-W5、N1-N5举办。展会规模扩大至近12万平米，计划邀请超**1800家海内外优质展商参展，同期举办多场前沿技术论坛及大会，预计吸引7万+专业观众及行业专家莅临现场。展会现已开启观众注册通道，诚邀电子人莅临现场，共探电子行业未来~ 展会概况 聚焦10大产业热词 慕尼黑上海电子展结合行业前沿动

作为IC工程师 你有没有为技术迭代“深夜困惑”？ 为技术转型“深感迷茫”？ 为经验贬值“无从发力”？ 近日，华大半导体“卓越工程师讲堂”特邀公司首席软件架构师、海外专家施卫富主讲，以《筑牢底层逻辑，深耕长期成长——工程师的职业发展进阶之路》为题，为现场及线上100余名青年工程师带来了一场兼具深度、温度与实用性的职业赋能指南。 培训立足集成电路行业人才成长特点，直击当下IC工程师成长困境，施卫富结合

[ ](https://mp.weixin.qq.com/s?__biz=MzkwNjQxMjk2MQ==&mid=2247483746&idx=1&sn=9cc150134392b4c25fd9a15b4b7f1927&scene=21#wechat_redirect) 11连跌后首次涨停：实控人836万元增持 5月21日晚间，*ST闻泰发布公告，公司实际控制

本文将介绍电子束直写光刻技术与其他光刻技术协同的混合光刻。 电子束直写（EBDW：Electron Beam Direct Write）光刻技术是全球范围内实验室、大学及中试线研发领域采用的标杆技术。尽管其写入速度较低，除光学掩模制造外，该技术从未被视为可行的工业解决方案。其天然的高分辨率特性能够在先进或创新器件进入大规模量产前实现低成本图形化。  得益于其对几乎所有化学放大光刻胶的全面兼容性，E

3月23日，国民技术股份有限公司（股票代码：02701.HK；300077.SZ）在港交所正式挂牌上市，成功登陆国际资本市场，开启“A+H”两地上市的全新发展篇章。这是国民技术发展历程中的重要里程碑，也是国民技术面向全球资本市场、迈向国际化新征程的关键一步。 📈二十六年前，国民技术从深圳起步...... 自成立以来，国民技术始终坚守“以理致远，向道而行”的信念，深耕半导体领域二十余载，现已成长为M

为深入贯彻落实国家人工智能发展战略，系统推进公司AI战略布局，充分发挥统一战线凝聚人心、汇聚力量的强大法宝作用，近日，华大半导体召开“爱企业 献良策 做贡献”主题活动暨AI浪潮下的“芯思考”研讨会。公司党委书记、董事长孙劼出席会议并讲话，副总经理赵毅，各部门主要负责人及各所投资企业的30余名党内外专家骨干参会。 孙劼指出，人工智能是培育发展新质生产力的核心引擎，更是公司实现从“跟跑”向“并跑”

5月6日消息，据《金融时报》最新报道，国家集成电路产业投资基金（简称“国家大基金”）正在与国内领先的大语言模型公司DeepSeek洽谈主导其首轮融资事宜，该轮融资对DeepSeek的估值有望达到450亿美元（约合3077.95亿元人民币）左右。这一估值较数周前谈判早期阶段的200亿美元直接翻了一番。 就在数周前的谈判早期阶段，外界对DeepSeek的估值还处于200亿美元左右，而现在直接翻了一番，

当你以 110 公里/小时的车速在高速公路行驶时，前方路面突然出现一处坑洼。放在以往，整车会随之颠簸，车内乘员体感明显；但搭载智能底盘的车辆可提前识别路面障碍。在前轮触碰到坑洼边缘前，悬架主动调软、阻尼参数即时重新标定，车辆平缓碾过坑洼，全程不会干扰驾乘人员。 这套连贯流畅的动态调节依托智能底盘实现，整车架构以传感器、处理器和电子执行器取代沿用百年的传统机械部件，从而实现对车辆的精准控制。 何为智

本文将介绍光刻胶形貌异常的原因，以及解决手段。 线宽均匀性关注的是图形尺寸的一致性，而光刻胶形貌则关注图形本身的截面形状是否正常。在实际工艺中，光刻胶形貌异常会直接影响后续刻蚀或离子注入的图形转移质量，因此识别和控制这些异常至关重要。 侧墙倾斜角 侧墙倾斜角指的是光刻胶侧壁偏离垂直方向的程度。产生倾斜角的一般原因是进入光刻胶底部的光比顶部的光弱，这是由于光刻胶对光的吸收造成的。解决的方法一般通过减