长期以来,能源消耗一直是数据中心运营商关注的重要问题,随着AI的兴起,这一挑战变得更加严峻。为了支撑AI工作负荷的爆发式增长,数据中心对电力的需求逐年攀升,因此实现尽可能高的能效至关重要。
英飞凌提出了一项战略,旨在提升从电网到核心的整个能源系**统性能**。本文将重点探讨AI如何推动数据中心架构升级,以及这些变化对服务器和机柜技术带来的影响。具体而言,我们将介绍数据中心通过向48V架构转型以提升能效的趋势,并讨论如何在服务器、机柜和相关设备中采用高性能Si MOSFET,以支持这一架构升级。
数据中心与电力
目前,数据中心的电力消耗约占全球总用电量的2%,但到2030年,这一比例可能上升至7%。为了更直观地理解这一数字,全球数据中心的电力消耗规模已接近当今整个印度的用电水平。
AI需求的快速增长正在推动这一趋势。大多数AI工作负荷在GPU上运行效果更佳,而运行AI工作负荷的GPU也会消耗更多功率。同时,其产生的热也大幅增加,因此需要更大规模的冷却系统,而这些冷却系统本身也会进一步增加电力消耗。
为了满足未来数据中心行业的电力需求,全球范围内将需要大量投资建设新的发电厂。这也进一步凸显了一个关键问题:必须最大限度地提高数据中心的能效。

数据中心架构升级
为了提高数据中心的能效,行业采取的一项重要措施是将中间母线电压从12V架构升级为48V。
一个机柜通常容纳4台或更多服务器。如今,一个仅运行CPU的服务器机柜功耗大约为3kW到5kW,而当机柜中部署大量运行高性能GPU和加速器以处理AI工作负荷的服务器时,其功耗可能达到10kW到100kW,甚至更高。
其后果是可以预见的。在电压保持不变的情况下,随着电流增加,传输损耗将显著上升(P = I2R)。与此同时,数据中心的电流预计在持续快速增长。
因此,提高电压成为最大限度地减少传输损耗,并提升供电效率的必要手段。数据中心向48V架构的转型已在数年前启动。
当来自数据中心的交流电进入机柜后,首先会被转换为直流电,并经过多级降压,先降至48V,再降至12V或6V,最终降至满足数据中心不同服务器中处理器(CPU、GPU、TPU)需求的精确电压水平。这些处理器通常需要约1VDC的电压。
对这一过程的每个阶段进行优化,对于最大限度地减少能量损耗并提升效率至关重要。这正是高性能MOSFET发挥关键作用的领域。
MOSFET的作用
MOSFET是实现高效功率转换的关键器件,从208至277 VAC输入电压开始,在逐级降至48V、12V、6V、1V或更低电压的过程中,MOSFET贯穿整个电源分配网络,覆盖从机柜到电路板,再到IC的各个层级。在这些路径中,MOSFET同样承担着AC-DC转换的重要角色。
MOSFET是电源分配系统以及多个机柜和服务器子系统的核心器件。这些子系统包括:开关电源(SMPS)、电源单元(PSU)、中间总线转换器(IBC)、负载点(POL)和电池备用单元(BBU)。
在电源设计中,一项基本原则是选择额定电压高于工作电压的MOSFET,因此,在采用48V中间母线架构时,通常需要使用80V至650V的MOSFET。
来自电网的电能进入数据中心后,首先会经过SMPS,通常是钛金级SMPS(按照定义,其效率高于97%)。数据中心通常会指定使用钛金级功率技术,也就是当前能效最高的方案。

PSU
一个典型的机柜电源架通常集成6个左右的PSU。在PSU中,MOSFET主要用于功率因数校正(PFC),隔离式DC/DC功率转换器的初级侧和次级侧,在直流输出端的ORing电路中,MOSFET还可以代替二极管。
在数据中心电源分配网络中,MOSFET是多个子系统的关键器件,有助于降低电压,并对电能进行调节。这些子系统包括SMPS、PSU、IBC、POL和BBU。
在PFC和隔离式DC/DC转换器初级侧中,通常采用650V MOSFET。这些MOSFET可以是Si MOSFET(例如:英飞凌的CoolMOSTM超结MOSFET),也可以是SiC MOSFET(例如:CoolSiCTM)。在隔离式DC/DC转换器中,LLC是最常用的拓扑结构。LLC转换器(采用全桥整流)的次级侧同步整流FET和输出端的ORing MOSFET通常采用80V MOSFET。英飞凌的80V OptiMOSTM 6 Power MOSFET技术通过提供低RDS(on) MOSFET,可显著提升系统效率,从而实现明显的性能提升。
LLC转换器(采用全桥整流)的次级侧同步整流FET和输出端的ORing MOSFET通常采用80V MOSFET。
除了追求最高功率效率外,PSU设计人员还希望器件能够尽可能小型化,以提高功率密度并支持散热管理。

在数据中心电源分配网络中,MOSFET是多个子系统的关键器件,有助于降低电压,并对电能进行调节。这些子系统包括SMPS、PSU、IBC、POL和BBU。
IBC
在每个机柜中,都包含大量计算托盘和交换托盘。IBC的作用是将48V转换为机柜内各个子系统所需的多个电压等级。
为此,在电源分配板上的48V第一级转换器中,集成了多个MOSFET,用于高效地将电压降至中间电压等级,常见的包括12V、9.6V、8V、6V和4.8V。
这张BBU剖面示意图展示了MOSFET在数据中心多个子系统中的多种应用位置。
在GPU板上的第二级POL转换器中,还需要更多的MOSFET(通常为25V MOSFET),以便根据具体处理器的要求,将电压进一步高效降至1V或接近1V。目前,AI加速器模块的功率等级已经超过750W,电流最高可达1000A(在0.75V核心电压下)。当一块主板上集成多达8个此类模块时,其功率等级和散热管理面临巨大挑战。
服务器机柜可以采用多种不同配置,这也将决定IBC的具体配置方式。设计人员需要考虑散热管理方案(例如:风冷还是水冷);在质量和可靠性之间取得平衡,以达到目标的平均故障间隔时间;随着GPU功率的增加,预测未来的功率密度需求;以及在保证效率的同时,兼顾总体拥有成本(TCO)。
具体的器件选择依然取决于具体配置,但通常而言,80V MOSFET更适用于初级侧/输入侧,而15V至60V MOSFET适用于次级侧/输出侧。英飞凌的OptiMOSTM Power MOSFET可提供优异的性能,其特点包括超低RDS(on)和更高的品质因数,非常适合高开关频率应用。

该BBU剖面示意图展示了MOSFET在数据中心
多个子系统中多个位置的应用

OptiMOSTM 5 Power MOSFET采用的新型 SuperSO8 封装可实现更高的功率密度,并提升稳健性,从而获得优异的效率和系统可靠性。芯片上产生的热量约有30%会传递到顶部散热器;裸露的铜夹(clip)设计有助于实现更有效的顶部散热。
BBU和热插拔
在每个服务器机柜中的BBU中,也需要使用MOSFET。电池管理系统和内部DC/DC转换器通常都会采用80V和100V的MOSFET。
MOSFET在另一个子系统中同样发挥着关键作用。数据中心通常被设计成支持热插拔板卡,以便更换故障板卡,或将其升级为性能更强或具备新处理能力的同类板卡。MOSFET在热插拔电路中提供保护功能,这类应用通常采用100V MOSFET。英飞凌OptiMOSTM 5 Linear FET 2是实现此类保护功能的理想器件。

封装
随着应用需求日益严格,在评估任何功率器件的性能时,都必须同时考虑器件的封装因素。这一点对于AI服务器等高要求应用尤为重要。
MOSFET的导通电阻(RDS(on) )是Si电阻(Rsi)和封装电阻(Rpack)之和。随着Si技术的不断进步,Rsi一直在持续下降。
Rsi的不断降低带来的一个结果是,Rpack在RDS(on)中所占比例越来越大。因此,未来要实现最佳性能,就必须降低Rpack,从而提升功率器件整体的效率和散热性能。
英飞凌在封装技术方面同样处于领先地位。许多MOSFET都采用功率方形扁平无引脚(PQFN)封装,并提供顶部散热和双面散热两种选择。MOSFET不论在哪种封装中都具有极低的RDS(on)值。
先进的封装技术还可以降低寄生电感,从而有助于提升开关性能。这对于AI服务器等应用尤为关键,因为这类应用对功率密度和开关频率的要求都在不断提高。
改进的封装设计还能提高器件的漏极电流额定值,从而有助于应对系统不断增长的功率需求。
英飞凌功率MOSFET的下一步发展
为了满足AI日益增长的功率需求,Si功率MOSFET技术需要持续创新。
传统上,MOSFET制造商通常批量生产通用型、标准化的器件。英飞凌则通过优化MOSFET设计,在功率能力、效率和功率密度之间实现了更好的平衡,以满足特定应用的需求——不仅面向AI,也适用于多种其他终端应用。
针对硬开关和软开关应用的专用产品,将进一步实现系统层面的优化,从而提升系统功率能力和效率。
例如,即将推出的OptiMOSTM 7 25 V系列,采用了专门针对开关性能优化的技术配置。这些MOSFET的参数已经根据特定IBC(48V变换)拓扑结构的需求进行了优化。
另一款产品是新的IQEH46NE2LM7ZCGSC,这是一款25V MOSFET,采用小型PQFN 3.3 × 3.3封装,典型RDS(on)为0.38 mΩ,源极向下结构,并可选双面散热。
英飞凌计划将此设计方法扩展到其他电压等级节点,使客户能够利用针对具体应用优化的功率MOSFET,进一步优化其系统解决方案。

总结
数据中心的能源使用模式使得提高能效成为一项关键任务。在数据中心内部进行电源管理,几乎与数据处理本身同样具有挑战性。
提高能效必须从分立式器件层面开始,并贯穿整个系统层面。数据中心规模庞大,即使是微瓦级别的能耗降低,由于在整个设施中被大规模重复应用,也会带来显著的效果。
除了高品质的Si产品外,英飞凌还利用SiC和GaN等先进宽禁带材料,为高效数据中心打造领先的解决方案。
这些材料对于降低功率转换过程中的损耗至关重要,并且能够在高性能计算环境中承受更高的电压和温度。
通过采用性能领先的MOSFET(例如:英飞凌OptiMOSTM、CoolMOSTM和CoolSiCTM MOSFET),并结合紧凑且具备高散热效率的封装技术,可以降低数据中心的TCO,提高应用的稳健性,并确保系统能够从容应对高级AI算法日益复杂的计算需求。
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