该合作在应用材料位于硅谷的EPIC中心与英特尔位于俄勒冈州的研发园区开展,目标是为AI芯片和系统开发下一代晶体管、互连和先进封装技术的突破。此次合作建立在双方长期合作的基础上,旨在共同解决复杂的半导体器件微缩挑战。
加利福尼亚州圣克拉拉,2026年10月6日——应用材料公司(纳斯达克:AMAT)是半导体行业材料工程领域的领导者,今天宣布与英特尔公司(纳斯达克:INTC)合作,加速开发下一代晶体管、互连和先进封装技术的芯片制造创新。双方将结合应用材料硅谷EPIC中心和英特尔俄勒冈州希尔斯伯勒研发园区的先进能力,缩短对AI计算至关重要的先进半导体技术的上市时间。
“应用材料与英特尔拥有数十年的深度合作历史,致力于突破材料工程边界,推进半导体路线图。”应用材料总裁兼首席执行官加里·迪克森表示,“将我们的团队汇聚在EPIC中心,将深化这一合作关系,并加快驱动AI计算未来所需的晶体管、互连和封装创新。”
“AI计算需求正在推动性能、能效和封装方面的重大进步。英特尔专注于交付这些创新,并与生态系统的合作伙伴紧密协作。”英特尔首席执行官陈立武表示,“应用材料是重要的合作伙伴,我们期待在EPIC中心扩大合作,帮助加速在美国从实验室到大规模制造的过程。”
应用材料和英特尔的团队正在针对AI工作负载的先进逻辑节点,合作开发下一代材料、工艺技术和器件架构,并将在EPIC中心继续推进这项工作。合作涵盖前道和后道制程的进展,包括互连微缩。合作还涉及基于Foveros的3D堆叠先进封装技术开发,以支持更高的互连密度、改进的供电和增强的散热性能,从而用于高性能计算平台,加速新兴的智能体AI工作负载。
“随着每个工艺节点的芯片制造路线图变得更加复杂,加速半导体器件、互连和封装创新需要在研发和制造之间进行更深入的合作。”应用材料半导体产品集团总裁普拉布·拉贾博士表示,“我们期待与英特尔作为EPIC中心的创始合作伙伴紧密合作,缩短开发周期,更快将新技术推向市场。”
“加快我们的研发以适应AI基础设施的快速建设,对于交付客户期望英特尔代工提供的技术、制造卓越和代工服务至关重要。”英特尔代工执行副总裁兼首席技术与运营官及总经理纳加·钱德拉塞卡兰表示,“应用材料的新EPIC中心提供了一个环境,让我们的团队能够更紧密、更高速地协作,加快材料开发和工艺创新。”
应用材料位于硅谷的新EPIC中心(设备与工艺创新及商业化中心)计划于今年具备运营条件,该中心从设计之初就旨在大幅缩短突破性技术从早期研究到大规模制造商业化的时间。对于芯片制造商而言,EPIC中心将提供更早接触应用材料研发组合的机会、更快的学习周期,以及在安全的协作环境中加速将下一代技术转移到大规模制造。此外,EPIC中心的共同创新计划将为应用材料提供更大的多节点可见性,以指导研发投资,同时提高研发生产率和价值分享。
本新闻稿包含前瞻性陈述,包括与应用的投资和增长战略、新材料和技术开发、行业前景和技术要求、EPIC中心的计划和预期相关的内容,以及其他非历史事实的陈述。这些陈述及其基本假设存在风险和不确定性,并非对未来业绩的保证。可能导致实际结果与此类陈述明示或暗示的结果存在重大差异的因素包括但不限于:半导体需求及客户技术要求;开发新颖创新技术的能力;在关键技术中获取和保护知识产权的能力;实现EPIC中心目标的能力;以及应用向美国证券交易委员会提交的文件中描述的其他风险和不确定性,包括最新的10-K、10-Q和8-K表格。所有前瞻性陈述均基于管理层当前的估计、预测和假设,应用材料没有义务更新这些陈述。
来源: 海外媒体
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